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172nm光刻及相關(guān)半導(dǎo)體加工工藝(Lithography Related)
主要特性
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Cygnus172nm光刻

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?新一代紫外波長(zhǎng):172 nm
?光源技術(shù):平面微腔陣列發(fā)光
?輸出強(qiáng)度: >10mW/cm2
?光刻分辨率:<0.5μm,典型可達(dá)0.35μm
?無(wú)需光刻膠,有機(jī)聚合物直接曝光
?無(wú)需超凈間,無(wú)需預(yù)熱,無(wú)需冷卻,無(wú)需復(fù)雜培訓(xùn),幾乎"零"維護(hù)
?杰出的光束均勻度:可用光圈的3%
?壽命長(zhǎng):3000小時(shí)曝光,曝光高達(dá)60000次(3分鐘/次), 使用可達(dá)10年
?綠色技術(shù):無(wú)汞等有毒易燃?xì)怏w和物質(zhì); 高電-光轉(zhuǎn)換率,節(jié)能省電;
?小巧,方便,可放入手套箱


高功率平面真空172 nm 紫外線(xiàn) —在光處理中更多應(yīng)用

采用特有的172nm波長(zhǎng),光源技術(shù)兼具高功率,以及超乎尋常的均勻性和多功能性,高效能且緊湊的模塊化設(shè)計(jì)。這些革命性的實(shí)現(xiàn)都由π2-CYGNI系列真空紫外光處理系統(tǒng)開(kāi)始。

172納米全新光處理體系

傳統(tǒng)172nm光源的低輸出功率阻礙了該波長(zhǎng)在研究和生產(chǎn)中的廣泛應(yīng)用。π2-CYGNI 克服了這一障礙,并展示了172 nm的真正實(shí)力-全新化學(xué)驅(qū)動(dòng),反應(yīng)方式和處理技術(shù)。

全新功率驅(qū)動(dòng)

紫外線(xiàn)弧光燈能提供高平均功率, 準(zhǔn)分子紫外線(xiàn)源提供高光子通量。π2-CYGNI 提供高平均功率和高光子通量- 無(wú)需有源或外部冷卻。 把高功率和高光子通量這種獨(dú)特組合,封裝在手掌大的盒子中,實(shí)現(xiàn)其他光源不易完成的大面積反應(yīng)和處理。

全新發(fā)光技術(shù)

每套 π2-CYGNI系統(tǒng)的核心是它超薄的(< 4mm)平面微腔光源。與傳統(tǒng)的弧光放電燈相比,這種廣域照射產(chǎn)生了卓越的均勻性,同時(shí)又消除了對(duì)復(fù)雜聚光、準(zhǔn)直和均化等光學(xué)器件的要求,使設(shè)備更加小巧,在一般實(shí)驗(yàn)室的適應(yīng)成為可能。

全新光刻工藝--無(wú)需昂貴的光刻膠、無(wú)需顯影

π2-CYGNI消除了對(duì)特定光刻膠的需求,由于172nm光具有高能量(每光子7 . 2eV),現(xiàn)在可以將有機(jī)聚合物用作光刻膠!由于有機(jī)膜質(zhì)量減少,在曝光期間產(chǎn)生圖像,因此消除了對(duì)單獨(dú)顯影步驟的需要,也避免光刻膠經(jīng)顯影后不易剝離(liftofff)的難題。



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