?高分辨率對(duì)準(zhǔn)和曝光系統(tǒng)，小型、桌面式?經(jīng)典設(shè)計(jì)，高精度、高穩(wěn)定性、操作簡(jiǎn)單
?擴(kuò)展光刻膠和襯底的材料范圍，打破傳統(tǒng)光刻工藝的限制
?一致的、高質(zhì)量的曝光結(jié)果，零培訓(xùn)、零基礎(chǔ)即可操作
?無(wú)需超凈間、任何地點(diǎn)都可以光刻；低功耗、可選電池供電
?搭建即可運(yùn)行，牢固的機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)器件，無(wú)需額外維護(hù)和校準(zhǔn)
?應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體、微流控、生物芯片、光學(xué)器件，及更多應(yīng)用領(lǐng)域
高精度光刻--實(shí)現(xiàn)如此簡(jiǎn)單
使用簡(jiǎn)潔的設(shè)計(jì)和簡(jiǎn)約的方法，α-line重新定義了的手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的性能期望和價(jià)格范圍。利用CygnusPhotonic新的π-Photon 172nm光源，α-line簡(jiǎn)化了傳統(tǒng)的高分辨率光刻，并引入了現(xiàn)有對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)不易實(shí)現(xiàn)的新處理能力。
α-line是一款通用型手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)和曝光系統(tǒng)，使準(zhǔn)直機(jī)(aligner)的應(yīng)用領(lǐng)域不再局限于微電子和傳統(tǒng)光刻膠。采用廠家新技術(shù)，可以直接在各種有機(jī)物例如PMMA、ABS或其他有機(jī)材料上進(jìn)行光刻，使α-line成為MEMS、微流控、生物工程和生命科學(xué)等研究領(lǐng)域的理想工具。
樣品/襯底
最大尺寸: 最小尺寸: 最大厚度(掩膜版+樣品)
50 mm × 50 mm (2” × 2”)
10 mm × 10 mm (0.4” × 0.4”)
8 mm
掩膜版尺寸
75 mm × 75 mm (3” × 3”) 定制尺寸 (可選)
樣品對(duì)準(zhǔn) 行程
X,Y:
Theta:
分辨率
X, Y:
Theta:±6 mm±10 ° (coarse), ±3 ° (Fine)<1.5 μm (<0.5 μm optional) 2 ×10-4 °
功率要求：
電壓: 功耗:
12 VDC, 110/220 V AC
(12 VDC adapter included)
<20 W
Utilities
Vacuum (optional): Compressed air (optional):
<-0.2 bar
>1.1 bar
曝光模式:
軟接觸, 硬接觸
尺寸
寬/深/高:
205/230/400 mm
重量:
<12 kg (26.5 lb)曝光波長(zhǎng)(需要π-Photon, 單獨(dú)出售):
172 nm /222 nm /308 nm
