172nm光刻及相關(guān)半導(dǎo)體加工工藝(Lithography Related)
主要特性
×
172nm波長(zhǎng)光刻和對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
高精度光刻--實(shí)現(xiàn)如此簡(jiǎn)單 使用簡(jiǎn)潔的設(shè)計(jì)和簡(jiǎn)約的方法，α -line重新定義了的手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的 性能期望和價(jià)格范圍。利用CygnusPhotonic先進(jìn)的π-Photon 172nm 光源，α -line簡(jiǎn)化了傳統(tǒng)的高分辨率光刻，并引入了現(xiàn)有對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)不易實(shí)現(xiàn)的新處理能力。
